因為儀器長(cháng)時(shí)間使用,反應室內有會(huì )有殘余物沉積,導致靈敏度降低,分析結果不重復等,所以用戶(hù)應根據使用情況定期清洗反應室。
清洗過(guò)程如下:
(1) 關(guān)閉所有電源開(kāi)關(guān);
(2) 打開(kāi)機蓋和屏蔽蓋,拔去暗室高壓電源及信號源插頭,斷開(kāi)三根連接管線(xiàn);
(3) 旋開(kāi)暗室底座(有氣路管線(xiàn)的端蓋),再旋開(kāi)反應室壓蓋螺絲,小心取下壓蓋、濾光片、石英片;用擦鏡紙擦石英片和濾光片,用干凈的軟布擦拭反應室內壁,如有必要,可沾用丙酮或乙醇擦洗干凈,再用氧氣吹干;
(4) 反應室清洗完畢,重新按順序安裝。
注意:固定濾光片、石英片時(shí),動(dòng)作要平穩,緊固程度以保證不漏氣即可,謹防濾光片、石英片破裂。濾光片、石英片位置不要裝反,石英片在反應室內壁,用于保護濾光片。
(5) 把反應室旋進(jìn)暗室后,再把三根連接管線(xiàn)接到相對應的氣路中去,避免漏光和漏氣現象。
技術(shù)文章
Article推薦新聞
Recommendation服務(wù)熱線(xiàn):
010-80764056 北京市昌平區新元科技園E座206 2592312833@qq.com版權所有©2024 得利特(北京)科技有限公司 | 備案號:京ICP備16038793號-5
管理登陸 技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng) sitemap.xml