氣體中水分的測定方法：

氣源是僅次于電源的一種動(dòng)力源，氣源同時(shí)還是--種重要的工藝介質(zhì)，這種雙重身份使氣體在工業(yè)基礎中充當了重要的角色。氣體的生產(chǎn)和使用都要考慮到水分的影響。水有時(shí)也被認為是一種“萬(wàn)能溶劑"，這是由于它的*的物理和化學(xué)性質(zhì)決定的。各個(gè)領(lǐng)域的研究及應用中都涉及到水分的分析，微電子工業(yè)、石油、化工領(lǐng)域尤為突出。超高純度氣體對于半導體集成電路中所要求的越來(lái)越小的幾何特征具有極其重要的作用。經(jīng)證實(shí)，氣體中只要有十億分之幾的水分就可在硅片上導致瑕疵。

工業(yè)生產(chǎn)氣體中水分不同于其他氣體雜質(zhì)(0、N、CH、CO，等)，水分的存留與氫鍵有關(guān)，氫鍵比其他作用的范德華力和偶極矩力表現出更強的吸引力，因此水分被固體表面吸附就很難除去。一般用長(cháng)時(shí)間吹掃的方法除去氣體中的水分，即目前氣體中水分含量的指標。因此，在上述領(lǐng)域中，一般都需要對微量水分加以監測。水分的測定分析方法可分為物理方法和化學(xué)方法兩大類(lèi)，如:光腔衰蕩光譜法、電解法、露點(diǎn)法、卡爾費休庫侖法、重量法、碳化鈣法等。